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蟑螂爬过的地方有细菌吗 蟑螂可以彻底消灭吗

蟑螂爬过的地方有细菌吗 蟑螂可以彻底消灭吗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看(kàn)一则突发消息。

  美光公司在华销售的产(chǎn)品未通过(guò)网络安全(quán)审查(chá)

  据(jù)网(wǎng)信办消(xiāo)息(xī),日前,网络安(ān)全(quán)审(shěn)查办公室依法对(duì)美光(guāng)公司在华销售产品进行(xíng)了(le)网络(luò)安全审查。

  审查发现(xiàn),美(měi)光公司产品存(cún)在较严重(zhòng)网络安全问题隐患,对我国关键信息基础设(shè)施(shī)供应链造成重大安(ān)全风(fēng)险,影响我国国(guó)家安全。为此,网络(luò)安全审查(chá)办公室依(yī)法作出(chū)不予通过网络(luò)安全审(shěn)查(chá)的(de)结论。按照《网络安全法》等法律法规(guī),我国内关键信息(xī)基础(chǔ)设施的运营者(zhě)应(yīng)停(tíng)止采购美光(guāng)公司产品。

  此次对美光公司产品进行网络安全审(shěn)查,目的是防(fáng)范产(chǎn)品网络安全问题危害(hài)国家关键(jiàn)信息基础设施安全,是维护国家安(ān)全(quán)的必(bì)要措(cuò)施。中国坚定推进高水平对外开(kāi)放(fàng),只要(yào)遵守中(zhōng)国法律法规要(yào)求,欢迎各国企业、各类平台产品服(fú)务进(jìn)入中国市场(chǎng)。

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  3月31日,中(zhōng)国网(wǎng)信网发文称,为保障关键信息基础设施供应链(liàn)安全(quán),防范产(chǎn)品问题(tí)隐(yǐn)患造(zào)成网络安全风(fēng)险,维(wéi)护(hù)国家(jiā)安全,依据《中华人民共和国国家安全法》《中(zhōng)华人民(mín)共和(hé)国网络安全法(fǎ)》,网络安全审查(chá)办(bàn)公室按照《网络安全审(shěn)查办法》,对(duì)美(měi)光公司(Micron)在华销售的产品实施网络安全审查。

  半(bàn)导体突发(fā)!中(zhōng)国出手:停止(zhǐ)采购!

  美光是美(měi)国的(de)存储芯(xīn)片行业龙头,蟑螂爬过的地方有细菌吗 蟑螂可以彻底消灭吗也是全球存储芯片巨头之一,2022年收入来自中国(guó)市场收(shōu)入从此前高峰(fēng)57%降至2022年约11%。根(gēn)据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星(xīng)电子、 铠(kǎi)侠、西(xī)部数据、SK 海力士(shì)、美光、Solidigm 在全球(qiú) NAND Flash (闪存)市(shì)场份额约(yuē)为 96.76%,三星电子、 SK 海(hǎi)力(lì)士、美光在全球(qiú) DRAM (内存)市场份额约为 94.35%。

  A股上市(shì)公司中,江波龙、佰维存(cún)储(chǔ)等公司(sī)披露过美(měi)光等国际存储厂商为公司供应商。

  美光在江波龙(lóng)采(cǎi)购占(zhàn)比已经显著下降(jiàng),至(zhì)少已经(jīng)不是主要大供应商。

  公告显示, 2021年美光位列江(jiāng)波龙第一(yī)大(dà)存(cún)储晶圆供应商,采购约31亿元,占比(bǐ)33.52%;2022年,江(jiāng)波龙第一大、第二大和第三大供(gōng)应商采购金额占比分别是(shì)26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  目(mù)前江波龙已经(jīng)在存(cún)储产业链上下游建立国内外广泛合作。2022年年(nián)报显示,江波龙与三星、美(měi)光、西(xī)部数据等主(zhǔ)要(yào)存储晶圆原厂签署了长期合约,确保(bǎo)存储晶圆供应的稳定(dìng)性,巩固公司在(zài)下游(yóu)市场的供应优势(shì),公司也与国内(nèi)国产存储晶圆原厂武汉长(zhǎng)江存储(chǔ)、合肥长鑫保持良好的合作。

  有券商此前就分析,如果(guǒ)美光在中国(guó)区(qū)销(xiāo)售受到限制,或将导致下游客户转而采购国(guó)外三星、 SK海力士,国(guó)内长江存储(chǔ)、长(zhǎng)鑫存(cún)储等竞对产品

  分析称,长存、长鑫的上游设(shè)备厂或从(cóng)中受益。存储器的生产已(yǐ)经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进入(rù)3D NAND时代,2 维到3维的结构转变(biàn)使刻蚀和薄膜成(chéng)为最关键、最大量的加工设备。3D NAND每(měi)层均需要经过薄膜(mó)沉积工(gōng)艺步(bù)骤,同时刻(kè)蚀目前(qián)前沿要刻(kè)到 60:1的深孔(kǒng),未来可能会(huì)更深的(de)孔或(huò)者沟槽,催生更多设备需求。据东京电子披(pī)露,薄(báo)膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本(běn)开支合计(jì)为(wèi)75%。自(zì)长江存储被加入美国限制名单,设备(bèi)国产化进(jìn)程(chéng)加速,看好(hǎo)拓(tuò)荆科技(jì)(薄膜沉积)等相关公司份额(é)提升,以及存(cún)储业务占(zhàn)比较高的(de)华(huá)海(hǎi)清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收入(rù)增(zēng)长。

 

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